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2015年06月08日

button_15.jpg  「EUV露光」実用へ光、東芝・ニコンなど高感度感光材――光源開発も後押し。

[ 2015年5月28日 / 日経産業新聞 ]
 EUV用レジストの開発が活発になっているのは、長年の課題だった光源開発が前進したからだ。これまでの試作装置は光源がまともに動かず、レジストの開発を妨げる要因になっていた。ところが、ここ数年で状況が変わった。

 キッカケをつくったのは露光装置最大手のオランダASMLである。同社は2012年に、米インテル、台湾TSMC(台湾積体電路製造)、韓国サムスン電子の半導体大手3社に開発加速のための出資および資金援助を呼びかけ、総額約52億ユーロの資金を獲得した。

 その一部を使い、13年にEUV光源を手掛ける米サイマーを買収、自社の技術者を大量に送り込み、総勢1千人規模でEUV光源の開発を大幅に加速させた。

 光源は安定して稼働するようになり、出力も従来の10〜20ワットから約80ワットまで高まった。TSMCがこの80ワットの光源を使い、1日に約1000枚のウエハーを処理するなど、量産まであと一歩の水準にきている。

 光源が一定の技術水準に達したことで、富士フイルムやJSRなど日本連合の今後のレジスト開発にも弾みがつく。加えて回路原板(マスク)や検査技術、マスクを保護する「ペリクル」の開発前進も期待できる。

 半導体大手はEUVを17年の10ナノメートルか、19年の7ナノメートル世代から量産に使いたい考え。EUV実現のスケジュールは後れを取ってきた。その流れに歯止めがかかりそうだ。(木村雅秀)
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