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 ひらめき>>LED照明・有機EL照明器具の選び方
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2015年06月08日

button_15.jpg  「EUV露光」実用へ光、東芝・ニコンなど高感度感光材――光源開発も後押し。

[ 2015年5月28日 / 日経産業新聞 ]
 EUV用レジストの開発が活発になっているのは、長年の課題だった光源開発が前進したからだ。これまでの試作装置は光源がまともに動かず、レジストの開発を妨げる要因になっていた。ところが、ここ数年で状況が変わった。

 キッカケをつくったのは露光装置最大手のオランダASMLである。同社は2012年に、米インテル、台湾TSMC(台湾積体電路製造)、韓国サムスン電子の半導体大手3社に開発加速のための出資および資金援助を呼びかけ、総額約52億ユーロの資金を獲得した。

 その一部を使い、13年にEUV光源を手掛ける米サイマーを買収、自社の技術者を大量に送り込み、総勢1千人規模でEUV光源の開発を大幅に加速させた。

 光源は安定して稼働するようになり、出力も従来の10〜20ワットから約80ワットまで高まった。TSMCがこの80ワットの光源を使い、1日に約1000枚のウエハーを処理するなど、量産まであと一歩の水準にきている。

 光源が一定の技術水準に達したことで、富士フイルムやJSRなど日本連合の今後のレジスト開発にも弾みがつく。加えて回路原板(マスク)や検査技術、マスクを保護する「ペリクル」の開発前進も期待できる。

 半導体大手はEUVを17年の10ナノメートルか、19年の7ナノメートル世代から量産に使いたい考え。EUV実現のスケジュールは後れを取ってきた。その流れに歯止めがかかりそうだ。(木村雅秀)
2015年06月03日

button_15.jpg  日本バルカー工業 韓国・平沢の工場を増設へ

聯合ニュース 6月2日(火)21時36分配信

【水原聯合ニュース】工業用部品メーカーの日本バルカー工業(東京都品川区)が、670万ドル(約8億3000万円)を投じ、韓国西部の京畿道・平沢にある梧城産業団地の工場を増設する。
 瀧澤利一代表取締役社長と同道の南景弼(ナム・ギョンピル)知事は2日、同団地内で工場増設などを盛り込んだ業務協約書に署名した。
 新たに建設される工場(敷地面積約5724平方メートル)では、半導体装置用のエラストマーシール(半導体装置の密閉性を維持する部品)を生産する予定だ。
 同社はそれまで全て輸入に依存していた半導体用シール製品を韓国で製造するため、2012年に同団地に工場を建設した。
 サムスン電子やLG電子などの半導体関連メーカーが平沢地域への投資を拡大していることに伴い、工場の増設を決めたとされる。

sjp@yna.co.kr
2013年10月15日

button_15.jpg  半導体ウエーハ材料の販売状況:SUMCO が大幅な下方修正を発表

半導体材料では半導体ウエーハ大手のSUMCO が9 月6 日に2013年12 月期予想の大幅下方修正を発表した。台湾TSMC、米Global Foundries、中国SMIC、台湾UMC といったロジックのファンドリーからの発注が急減しており、8 月からSUMCOの300mmの半導体ウエーハ出荷(主に高価格なエピタキシャルウエーハ)が減少しているようだ。主にハイエンドスマートフォンの調整により、これらの顧客が生産調整を行っている。

2013年09月04日

button_15.jpg  ムーアの法則はあと7年で終わる? 微細化の限界は7nmか5nm

 米国防総省のディレクタによれば、ムーアの法則は早ければ2020年、遅くても2022年までに終えんを迎えるという。ムーアの法則は、あと7年も続くのだろうか。
 
 「ムーアの法則は、7nmノードに達した時点で終えんを迎える。早ければ2020年になるだろう」――。米国防総省国防高等研究事業局(DARPA:Defense Advanced Research Projects Agency)でマイクロシステムグループのディレクタを務めるRobert Colwell氏は、米国カリフォルニア州パロアルトで開催された「HOT CHIPS 25」(2013年8月25〜27日)の基調講演で、このように語った。「ムーアの法則の限界は2022年と言われている。問題はそれが7nmなのか5nmなのかだ」(同氏)。
 
 ムーアの法則の終えんを予想する声は多い。リソグラフィ技術の進歩に陰りがみられ、プロセスの微細化が限界に近づいていることから、この予測の信ぴょう性は高まっている。
 
 ムーアの法則は、30年以上にわたって指数関数的な成長が実現された珍しい成長因子だ。同氏は、「今後30年の間に、ムーアの法則に並ぶほどの性能向上を実現するエレクトロニクス技術が登場するとは思えない。残念なことに、毎年順調に純利益が増加し、潤沢な開発資金を得られるなどということも世界的に考えにくい」と、プロセッサ設計者らに向けて語った。
 
 DARPAは、ムーアの法則に大きく貢献してきたCMOSプロセス技術に代わる技術として、30種類も代替技術を検討しているという。Colwell氏は、「私の個人的な見解では、有望な方法は2〜3個あるものの、確実とは言えない」と述べている。
 
 DARPAのマイクロシステムグループは現在、多額の資金を投じて2つの開発プログラムを実施している。そのうち1つは、「UPSIDE(Unconventional Processing of Signals for Intelligent Data Exploitation)」と呼ばれる、コンピューティングの精度の向上よりも消費電力の低減に重点を置いたプロセッサ開発プログラムである。もう1つは、スピントルク発振器の効果を検証するプログラムだ。スピントルク発振器は、消費電力が比較的低いソリューションとして活用が期待されている。
 
 Colwell氏は、Intelで「Pentium」プロセッサの設計に携わった経歴を持つ。
 
(以上、8月30日のEE Times Japanの記事から)
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